Библиотека образцов студенческих работCVD-технологии получения нанопокрытий
Описание:
Номер в архиве: 2099
1. Обобщенная схема процессов CVD 5
2. Варианты методов CVD 9
Заключение 14
Список использованной литературы 15
Одним из эффективных методов, который характеризуется большим разнообразием в реализации и в потенциальных областях применения, является метод химического осаждения из газовой фазы (Chemical vapor deposition - CVD). Развиваясь уже более ста лет , этот метод находит все новые средства реализации и области применения.
Главными преимуществами, по сравнению с другими методами, является, во-первых возможность реализации в рамках метода CVD процессов получения функциональных материалов и покрытий в менее энергетически затратных, не требующие специальных условий (высокого вакуума, растворов электролитов, расплавов и др.) режимах; во-вторых, большое разнообразие исходных реагентов - прекурсоров - позволяет оптимизировать свойства как получаемого материала так и исходных продуктов реакции, имеет как технологическое так и экологическое значение и, наконец, газофазное получение функциональных материалов лишены специфических недостатков других методов (экранирование, теневого эффекта и др.), что вызвано особенностями газовой фазы.
Благодаря присущим ей положительным свойствам, среди которых можно выделить простоту, массовость и надежность результатов, разнообразие и качество материалов, синтезируемых CVD-технология с каждым годом расширяет сферы применения. В настоящее время около четверти функциональных пленочных материалов и покрытий находят самое широкое применение во многих отраслях промышленности, синтезируются различными модификациями CVD технологии.
Цель работы – исследовать современное состояние метода химического осаждения из газовой фазы, многообразие форм его реализации напримере нанопокрытий.
Содержание
Введение 31. Обобщенная схема процессов CVD 5
2. Варианты методов CVD 9
Заключение 14
Список использованной литературы 15
Введение
Практика постоянно ставит перед наукой задачи создания и совершенствования методов получения металлических, оксидных, карбидных, нитридных и др. покрытий для термо-, -, коррозионной защиты, синтеза селективных катализаторов, функциональных материалов электроники, высокодисперсных порошков, керамики и др. По этой причине, наблюдается параллельный научный и технический интерес к новым аспектам методов синтеза неорганических материалов.Одним из эффективных методов, который характеризуется большим разнообразием в реализации и в потенциальных областях применения, является метод химического осаждения из газовой фазы (Chemical vapor deposition - CVD). Развиваясь уже более ста лет , этот метод находит все новые средства реализации и области применения.
Главными преимуществами, по сравнению с другими методами, является, во-первых возможность реализации в рамках метода CVD процессов получения функциональных материалов и покрытий в менее энергетически затратных, не требующие специальных условий (высокого вакуума, растворов электролитов, расплавов и др.) режимах; во-вторых, большое разнообразие исходных реагентов - прекурсоров - позволяет оптимизировать свойства как получаемого материала так и исходных продуктов реакции, имеет как технологическое так и экологическое значение и, наконец, газофазное получение функциональных материалов лишены специфических недостатков других методов (экранирование, теневого эффекта и др.), что вызвано особенностями газовой фазы.
Благодаря присущим ей положительным свойствам, среди которых можно выделить простоту, массовость и надежность результатов, разнообразие и качество материалов, синтезируемых CVD-технология с каждым годом расширяет сферы применения. В настоящее время около четверти функциональных пленочных материалов и покрытий находят самое широкое применение во многих отраслях промышленности, синтезируются различными модификациями CVD технологии.
Цель работы – исследовать современное состояние метода химического осаждения из газовой фазы, многообразие форм его реализации напримере нанопокрытий.